超纯水在半导体制造中的应用案例主要体现在以下几个方面：

  1、品圆制备：在半导体生产过程中，品圆是关键的原材料。超纯水在此环节中用于清洁和去除颗粒及化学杂质，确保品圆表面的洁净度，从而降低制造缺陷。

    2、光刻工艺：光刻是半导体制造中的重要步骤，需要高精度的图案重复和高质量的光刻效果。超纯水用于洗净掩膜板、镜片和品圆，以确保图案的精确重复和光刻质量。

    3、刻蚀和腐蚀：在刻蚀和腐蚀工艺中，超纯水不仅用于冷却，还用于清洗，以保护工艺设备和材料。

    4、提升芯片产品质量：超纯水设备作为品质控制的关键一环，在半导体产业的精密制造流程中对提升芯片产品质量起到了决定性作用。通过确保芯片制造过程的高纯净度环境，直接影响并提升最终产品的性能与可靠性。

    5、提高生产效率：使用超纯水设备可以显著减少生产过程中的杂质和污染物，从而减少清洗和蚀刻等工艺的时间和次数，提高生产效率。

    6、全方位支持：从原材料制备到最终产品封装，超纯水设备在半导体行业中的应用体现了其对整个制造流程的全方位支持，推动了半导体技术进步与产业升级。